ผลของการสปัตเตอริงเพาเวอร์ต่ออัตราการปลดปล่อยฟิล์มบาง ZAO

รูปที่ 3 เป็นพล็อตของการสปัตเตอร์กับอัตราการสะสมของฟิล์ม พารามิเตอร์กระบวนการคือความดันปฏิกิริยาเป็น 0.7 Pa อัตราส่วนการไหลของ O2 และ Ar เป็น 3/20, อุณหภูมิการสะสมเป็น 200 ° C จากรูปที่ 3 เป็นที่ทราบกันดีว่าอัตราการเกิดของฟิล์มบาง ZAO เกือบจะเป็นเส้นตรงเพิ่มขึ้นเมื่อมีการเพิ่มกำลังสปัตเตอร์ เนื่องจากในกระบวนการเคลือบด้วยสปัตเตอร์อัตราการเกิดการตกตะกอน (R) เป็นสัดส่วนกับผลิตภัณฑ์ของความหนาแน่นของฟลักซ์ (J) ที่เกิดขึ้นและอัตราการสปัทเทอร์ (Y) ได้แก่ :

R = CYJ

C เป็นค่าคงที่ของอุปกรณ์สปัตเตอร์ ตามสูตรข้างต้นเมื่อพลังสปัตเตอร์เพิ่มขึ้นการเพิ่มแรงดันไอพัดและแรงดันไฟฟ้าจะเพิ่มขึ้นพร้อม ๆ กันเพื่อให้ความหนาแน่นกระแสไอออนที่เกิดขึ้น (J) และพลังงานไอออนที่เพิ่มขึ้น (E) เพิ่มขึ้นและความสัมพันธ์ระหว่างพลังงานไอออนที่เกิดขึ้น (E ) และผลผลิตสปัตเตอร์ภายในช่วงนี้จะแสดงการเพิ่มขึ้นของเส้นโดยประมาณและอัตราการเคลือบฟิล์มยังเพิ่มขึ้นประมาณ

บนเส้นโค้งของรูปที่ 3 จุดสองจุดของ 120W และ 170W จะถูกเลือกและวาดเป็นรูปที่ 3.1 พารามิเตอร์กระบวนการอื่น ๆ จะสอดคล้องกัน จะเห็นได้ว่าเมื่อพลังงานเพิ่มขึ้นเส้นโค้งอัตราการสะสมจะเคลื่อนไปทางด้านขวาบนและรักษาความคล้ายคลึงกันของรูปร่างซึ่งหมายความว่าจะสามารถเพิ่มอัตราการสะสมได้มากกว่าการลดผลกระทบของปรากฏการณ์พิษของเป้าหมาย

รูปที่ 3 ความสัมพันธ์ระหว่างกำลังสปัตเตอร์กับอัตราการสะสม

รูปที่ 3.1 ความสัมพันธ์ระหว่างอัตราการไหลของ O2 กับอัตราการเกิดตะกอนด้วยแรงปะปา