ปัจจัยที่มีผลต่อการทำความสะอาดอัลตราซาวด์

1. ความเข้มของอัลตราโซนิค

ผลกระทบของการทำความสะอาดอัลตราโซนิคขึ้นอยู่กับผล cavitation แต่รุ่นของผล cavitation เกี่ยวข้องกับความรุนแรงของคลื่นอัลตราโซนิก ภายใต้สถานการณ์ปกติเมื่อพลังงานล้ำเสียงต่อพื้นที่เกินกว่า 0.3 วัตต์ความเข้มของอัลตราโซนิคที่มากขึ้นจะทำให้เกิดผลกระทบจากการเกิด cavitation และผลการทำความสะอาดที่ดีขึ้น นอกจากนี้ตามการทำความสะอาดที่แตกต่างกันวัตถุเลือกความเข้มของอัลตราโซนิคที่เหมาะสมเช่นความแรงของอัลตราโซนิคสามารถลดลงเมื่อทำความสะอาดแผงวงจรและความเข้มของอัลตราโซนิคจะสูงขึ้นเมื่อทำความสะอาดชิ้นส่วนเครื่องจักรกล

2. ความถี่อัลตราซาวด์

ผล Cavitation ยังเกี่ยวข้องกับความถี่ของคลื่นอัลตราโซนิก มีความกว้างขั้นต่ำที่สำคัญในการสร้าง cavitation นั่นคือ cavitation ลดลงด้วยการเพิ่มขึ้นของความถี่ ปัจจุบันความถี่ในการทำงานของเครื่องทำความสะอาดอัลตราโซนิกแบ่งออกเป็นสามแถบความถี่ตามวัตถุทำความสะอาด: LF ทำความสะอาดอัลตราโซนิก (20 ~ 50 kHz) ทำความสะอาดอัลตราโซนิกความถี่สูง (50 ~ 200 kHz) และทำความสะอาดอัลตราโซนิก MHz (1000 เฮิร์ทซ์) การทำความสะอาดอัลตราโซนิกความถี่ต่ำเหมาะสำหรับพื้นผิวชิ้นส่วนขนาดใหญ่หรือบริเวณที่สิ่งสกปรกและทำความสะอาดมีความแข็งแรงสูง การทำความสะอาดอัลตราโซนิกความถี่สูงเหมาะสำหรับการทำความสะอาดเครื่องคอมพิวเตอร์และอุปกรณ์ไมโครไฟเบอร์เช่นดิสก์ตัวกระตุ้นหัวอ่านเขียนและจอ LCD และไมโครคอมโพเนนตอร์ การทำความสะอาดอัลตราซาวด์ของเมกะเฮิร์ตซ์เหมาะสำหรับการทำความสะอาดชิปวงจรรวมซิลิคอนเวเฟอร์และฟิล์มบาง ๆ

3. อุณหภูมิในการทำความสะอาด

cavitation เป็นที่ชื่นชอบเมื่ออุณหภูมิในการทำความสะอาดเพิ่มขึ้น อย่างไรก็ตามถ้าอุณหภูมิสูงเกินไปความดันไอในฟองสบู่จะเพิ่มขึ้นและความแข็งแรงของโพรงอากาศลดลง ดังนั้นการเลือกอุณหภูมิจะต้องพิจารณาถึงผลกระทบต่อความแข็งแรงของโพรงอากาศและคุณสมบัติทางเคมีของสารทำความสะอาด ชนิดของของเหลวแต่ละชนิดมีอุณหภูมิที่ใช้งานได้ cavitationally และอุณหภูมิที่เหมาะสมมากขึ้นสำหรับน้ำประมาณ 60 องศาเซลเซียสที่จุด cavitation ที่ใช้งานมากที่สุด