พารามิเตอร์หลักที่มีผลต่อฟิล์มสปัตเตอร์

พารามิเตอร์หลักที่มีผลต่อฟิล์มสปัตเตอร์

อัตราการสะสมหมายถึงความหนาของฟิล์มที่สะสมบนวัสดุพิมพ์ในหน่วยเวลาโดยวัสดุสปัตเตอร์จากเป้าหมายซึ่งเป็นสัดส่วนกับอัตราสปัตเตอร์ มีความสัมพันธ์ดังต่อไปนี้:

QT = CIH

Qt - หมายถึงอัตราการสะสม

C - ค่าคงที่แสดงถึงลักษณะของอุปกรณ์สปัตเตอร์

I - แสดงถึงการไหลของไอออน

H - หมายถึงอัตราการสปัตเตอร์

จะเห็นได้จากสมการนี้ว่าเมื่ออุปกรณ์สปัตเตอร์ได้รับการแก้ไข (นั่นคือ C คือพารามิเตอร์คงที่ของอุปกรณ์สปัตเตอร์ซึ่งโดยทั่วไปจะกำหนดโดยพารามิเตอร์หลักเช่นระยะทางฐานเป้าหมายที่จุดเริ่มต้นของการออกแบบ) และแก๊สทำงาน วิธีที่ดีที่สุดในการปรับปรุงอัตราการสะสมคือการเพิ่มการไหลไอออน

อัตราการสร้างฟิล์มโดยแมกนีตรอนสปัตเตอริงนั้นแปรผันตามกำลังของเป้าหมาย ปัจจัยที่กำหนดอัตราการสะสมคือ: ความหนาแน่นพลังงานของพื้นที่แกะสลัก, พื้นที่แกะสลัก, ระยะทางฐานเป้าหมาย, วัสดุเป้าหมาย, ความดันก๊าซ, องค์ประกอบของก๊าซ ฯลฯ พารามิเตอร์ที่ระบุไว้ข้างต้นจะถูกจัดเรียงตามลำดับความสำคัญ แต่บางส่วนของ พวกมันมีอิทธิพลต่อกันและกันเช่นความดันความหนาแน่นพลังงานพื้นที่การแกะสลักเป็นต้นนอกจากนี้สมบัติเชิงความร้อนและเชิงกลของชิ้นงานยัง จำกัด อัตราการสปัตเตอร์สูงสุด

IKS PVD เทคโนโลยีการเคลือบสูญญากาศติดต่อเราตอนนี้ iks.pvd@foxmail.com