แหล่งพลังงานหลายแห่งในเทคโนโลยี PVD - แหล่งจ่ายไฟแบบ Multi Arc
Aug 21, 2020| แหล่งพลังงานหลายแหล่งในเทคโนโลยี PVD - แหล่งจ่ายไฟแบบ Multi-Arc
การทำให้เกิดการระเหยของเป้าหมายและการแตกตัวเป็นไอออนในฟิล์มชุบไอออนแบบหลายอาร์กต้องอาศัยพลังงานที่ได้จากกำลังอาร์ก ในกระบวนการเคลือบจริงกำลังไฟฟ้าควรสามารถตรวจจับปรากฏการณ์ของการดับส่วนโค้งโดยอัตโนมัติและเริ่มส่วนโค้งโดยอัตโนมัติเพื่อให้แน่ใจว่ากระบวนการเคลือบมีความต่อเนื่องและความสม่ำเสมอของชั้นฟิล์ม นอกจากนี้ประสิทธิภาพที่คงที่ของกำลังอาร์กโดยเฉพาะอย่างยิ่งกระแสคงที่ต่ำสุดมีอิทธิพลอย่างมากต่อความสม่ำเสมอประสิทธิภาพและความสมบูรณ์ของฟิล์ม เครื่องชุบไอออนแบบหลายอาร์กมีพลังงานอาร์กไฟฟ้าเพียงไม่กี่ชิ้นมากกว่าหนึ่งโหลหรือหลายสิบชิ้น การทำงานที่มั่นคงและเชื่อถือได้มีความสำคัญอย่างยิ่งต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์ทั้งหมด พลังงานอาร์คจากแหล่งจ่ายไฟแบบเดิมโดยใช้เทคโนโลยีการควบคุมซิลิกอนซึ่งพัฒนามาจนถึงอินเวอร์เตอร์ความถี่สูงในปัจจุบัน เมื่อเทียบกับพลังงานอาร์กที่ผลิตโดยเทคโนโลยีแม่เหล็กไฟฟ้าและซิลิคอนควบคุมแบบดั้งเดิมพลังอาร์กอินเวอร์เตอร์ความถี่สูงมีคุณสมบัติดังต่อไปนี้:
1. ลดขนาดลงเพียงเศษเสี้ยวของแหล่งจ่ายไฟเก่า น้ำหนักของแหล่งจ่ายไฟที่สอดคล้องกันเป็นเพียงเศษเสี้ยวหนึ่งถึงหนึ่งในสิบของแหล่งจ่ายไฟแบบเดิม
2. ประสิทธิภาพของแหล่งจ่ายไฟได้รับการปรับปรุงอย่างมีนัยสำคัญสูงกว่าแหล่งจ่ายไฟแบบเก่าประมาณ 20% ~ 30%
3. ใช้งานง่ายมีความแม่นยำสูงในการควบคุมกระแสไฟฟ้ามีเสถียรภาพที่ดีซึ่งเอื้อต่อการควบคุมความหนาของฟิล์มได้อย่างแม่นยำและมั่นใจได้ว่าสามารถทำซ้ำความหนาของฟิล์มได้
4. แหล่งจ่ายไฟอาร์คอินเวอร์เตอร์ความถี่สูงมีการกระเพื่อมเล็กน้อยและความเร็วในการตอบสนองสูงกว่าแหล่งจ่ายไฟแบบเก่ามาก ภายใต้แหล่งกำเนิดอาร์กและสภาพการทำงานเดียวกันการใช้แหล่งพลังงานอาร์กอินเวอร์เตอร์ความถี่สูงจะเอื้อต่อการปรับปรุงเสถียรภาพของส่วนโค้งและลดจำนวนการดับส่วนโค้ง
บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เคลือบผิวด้วยแสง mahcine, สายการผลิตสูญญากาศ PVD ติดต่อเราตอนนี้ E-mail: iks.pvd@foxmail.com