เคลือบการระเหยสูญญากาศสามารถแบ่งออกเป็น

การเคลือบการระเหยสูญญากาศสามารถแบ่งออกเป็น:
การเคลือบการระเหยของความต้านทาน (เหมาะสําหรับการระเหยของวัสดุจุดหลอมเหลวต่ําเช่นทองคําเงินสังกะสีซัลไฟด์แมกนีเซียมฟลูออไรด์โครเมียมไตรออกไซด์ ฯลฯ )
การเคลือบการระเหยของลําแสงอิเล็กตรอน (สามารถระเหยโลหะทนไฟเช่นโมลิบดีนัมทังสเตนเจอร์เมเนียมซิลิกาอลูมินา ฯลฯ )
การเคลือบการระเหยความร้อนเหนี่ยวนําความถี่สูง (อัตราการระเหยมีขนาดใหญ่อุณหภูมิแหล่งระเหยมีเสถียรภาพใช้งานง่ายความบริสุทธิ์ของความต้องการของวัสดุ
กว้าง) กว้าง)
การเคลือบการระเหยความร้อนอาร์ค (เหมาะอย่างยิ่งสําหรับจุดหลอมเหลวสูงในเวลาเดียวกันมีการนําไฟฟ้าบางอย่างของวัสดุเช่นกราไฟท์ อุปกรณ์ เจน
เดียวที่ถูกกว่าข้อเสียคือการปล่อยที่เกิดจากอนุภาคไมครอนจะมีผลต่อความสอดคล้องของภาพยนตร์)
การเคลือบการระเหยลําแสงเลเซอร์ (สามารถระเหยวัสดุใด ๆ ที่มีจุดหลอมเหลวสูง)
การเคลือบการระเหยของปฏิกิริยา (การระเหยของสารประกอบทนไฟเช่นแมกนีเซียมฟลูออไรด์แบเรียมออกไซด์ดีบุกออกไซด์ ฯลฯ )

บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบแสง, สายการเคลือบสูญญากาศ PVD ติดต่อเราตอนนี้, e- mail: iks.pvd@foxmail.com