การวิเคราะห์ความสามารถในการพกพาของแม็กเน็ทรอน

  1. พื้นที่เป้าหมายและช่วงพลังงานโหลด

(1) ความหนาแน่นของพลังงานของเป้าหมาย magnetron วงกลมเป็นวงกลมโดยทั่วไป 1 ~ 25w / cm ²

(2) ความหนาแน่นของพลังงานของเป้าหมาย magnetron ทรงสี่เหลี่ยมผืนผ้าเป็น 1 ~ 36w / cm ²

(3) ความหนาแน่นของพลังงานของเป้าหมาย magnetron columnar และเป้าหมาย magnetron planar รูปกรวย (S gun) โดยทั่วไปคือ 40 ~ 50w / cm2

2. กำลังเคลื่อนที่ที่แท้จริงของเป้าหมาย magnetron

นอกเหนือจากเทคโนโลยีสปัตเตอริงและความต้องการด้านคุณภาพของฟิล์มแล้วพลังแบริ่งที่แท้จริงของเป้าหมาย magnetron ยังเกี่ยวข้องกับสภาวะการระบายความร้อนและสภาวะการกระจายความร้อนของเป้าหมายอย่างใกล้ชิด

เป้าหมายของแม๊กเน็ทรอนสามารถแบ่งออกได้เป็น 2 ประเภท ได้แก่ "เป้าหมายการระบายความร้อนโดยตรง" และ "น้ำเย็นโดยอ้อม" ตามวิธีการทำความเย็น

เมื่อคำนึงถึงอายุของเป้าหมายหลังจากใช้งานในระยะยาวทำให้สภาวะการสลายตัวของความร้อนต่ำและคำนึงถึงค่าสัมประสิทธิ์การถ่ายเทความร้อนที่แตกต่างกันของวัสดุเป้าหมายที่แตกต่างกันกำลังรับน้ำหนักสูงสุดของเป้าหมาย magnetron และสมรรถนะสูงสุดที่แท้จริงของเป้าหมายการระบายความร้อนโดยตรง สามารถตั้งค่าได้น้อยกว่าขีด จำกัด บนของช่วงความเข้มของพลังงาน และภาระสูงสุดที่แท้จริงของเป้าหมายการทำความเย็นโดยทางอ้อมสามารถตั้งค่าได้ประมาณครึ่งหนึ่งของขีด จำกัด บนของช่วงความเข้มของพลังงาน

เมื่อเป้าหมายของ magnetron (ส่วนใหญ่เป็น Cu, Ag, ทองเหลืองและอัลทองแดง) "self-sputtering" โดยทั่วไปแล้วจะใช้เป้าหมาย magnetron sputtering ที่ได้รับการออกแบบมาเพื่อ "direct water-cool" กำลังการถือครองที่ดีที่สุดสำหรับการใช้ต้องมากกว่าขีด จำกัด บนของช่วงความหนาแน่นของพลังงานเป้าหมาย