การประยุกต์ใช้และความก้าวหน้าของเทคโนโลยีการสะสมไอ

การประยุกต์และความก้าวหน้าของเทคโนโลยีการสะสมไอระเหย

มีการใช้สารเคมีสะสมไอระเหย (CVD) กันอย่างแพร่หลาย ต่อไปนี้เป็นการแนะนำการประยุกต์ใช้ CVD ในแม่พิมพ์และแม่พิมพ์

แม่พิมพ์และแม่พิมพ์มีบทบาทสำคัญในการผลิตภาคอุตสาหกรรม การปรับปรุงประสิทธิภาพพื้นผิวและอายุการใช้งานของแม่พิมพ์และแม่พิมพ์เป็นหนึ่งในประเด็นสำคัญของการวิจัยวัสดุและเทคโนโลยี วิธีการ TCVD สามารถใช้เพื่อสร้างการเคลือบที่ทนทานต่อการสึกหรอซึ่งประกอบด้วยคาร์ไบด์ ไนไตรด์ และออกไซด์ และมีการผสมทางโลหะวิทยาบนพื้นผิวของโลหะผสมแข็งและเมทริกซ์เหล็กกล้า อายุการใช้งานของใบมีดโลหะผสมแข็งสามารถเพิ่มได้มากกว่า 1 ~ 5 เท่า และอายุการใช้งานของแม่พิมพ์ทำงานเย็นสามารถเพิ่มได้ 3 ~ 10 เท่า

บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบ DLC, เครื่องเคลือบออปติคอล, สายเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการแบบเบ็ดเสร็จ ติดต่อเราตอนนี้ E-mail:iks.pvd@foxmail.com