อาร์คดิสชาร์จและโกลว์ดิสชาร์จ

การปลดปล่อยอาร์คและการปลดปล่อยการเรืองแสง

สิ่งที่ไม่ได้สะท้อนให้เห็นในตาราง PVD และ CVD ก็คือ เนื่องจากเทคโนโลยีการเคลือบแบบสุญญากาศส่วนใหญ่ดำเนินการในพลาสมาที่ปล่อยก๊าซ จึงมีอนุภาคที่มีประจุจำนวนมากในห้องเคลือบ ดังนั้นเทคโนโลยีการเคลือบแต่ละประเภทจึงใช้ไฟฟ้าและแม่เหล็กอย่างชำนาญ หรือสนามแม่เหล็กไฟฟ้าเพื่อควบคุมการเคลื่อนที่ของอิเล็กตรอน เพื่อให้อิเล็กตรอนและก๊าซมากขึ้น อะตอมของโลหะมากขึ้นทำให้เกิดการชนกันของไอออน โดยการเพิ่มความหนาแน่นของพลาสมาในพื้นที่เคลือบและพลังงานโดยรวมของอนุภาคฟิล์ม ทำให้ง่ายต่อการเกิดปฏิกิริยาและสะสมสูง - การเคลือบแข็งที่มีคุณภาพ

ในเทคนิคการชุบไอออนแบบต่างๆ โลหะจะชนกับอิเล็กตรอนพลังงานสูงในพื้นที่คายประจุในลักษณะที่ไม่ยืดหยุ่น อิเล็กตรอนที่มีพลังงานจะผลักอิเล็กตรอนวงนอกสุดออกจากอะตอมเพื่อสร้างไอออน ไอออนยังรวมตัวกับอิเล็กตรอนเพื่อสร้างอะตอม ซึ่งจะให้พลังงานที่ดูดซับเมื่อแตกตัวเป็นไอออนในรูปของโฟตอนซึ่งจะเปล่งแสงออกมา ยิ่งไอออไนซ์มากเท่าไหร่ การเรืองแสงคอมโพสิตก็จะยิ่งแข็งแกร่งขึ้น ความเข้มของแสงในห้องเคลือบการปล่อยอาร์กจะแรงกว่าการปล่อยแสงมาก

บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบ DLC, เครื่องเคลือบออปติคอล, สายเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการแบบเบ็ดเสร็จ ติดต่อเราตอนนี้ อีเมล: iks.pvd@foxmail.com