การสะสมไอของสารเคมี (CVD)

การสะสมไอของสารเคมี (CVD)
เทคโนโลยี CVD ใช้สารประกอบที่เป็นก๊าซหรือส่วนผสมของสารประกอบเพื่อทำปฏิกิริยาทางเคมีบนพื้นผิวที่ร้อนของวัสดุพิมพ์ ส่งผลให้เกิดการเคลือบที่ไม่ระเหยบนพื้นผิวของวัสดุพิมพ์
ข้อดี: ใช้งานง่าย มีความยืดหยุ่นสูง เหมาะสำหรับชั้นฟิล์มเดี่ยวหรือคอมโพสิตและชั้นฟิล์ม การบังคับใช้กว้าง อัตราการสะสมสามารถเข้าถึงหลายไมครอนถึงหลายร้อยไมครอนต่อนาทีโดยมีประสิทธิภาพการผลิตสูง เหมาะสำหรับการเคลือบเมทริกซ์รูปร่างที่ซับซ้อน การเคลือบมีความกระชับดี
ข้อเสีย: อุณหภูมิการสะสมตัวสูงทำให้ประสิทธิภาพของพื้นผิวลดลงได้ง่าย ก๊าซปฏิกิริยาและก๊าซหางปฏิกิริยาอาจมีการกัดกร่อน การติดไฟ และความเป็นพิษบางอย่าง เคลือบผิวได้บางมาก
วิธี CVD ส่วนใหญ่ใช้ในสองทิศทาง:
1 เตรียมการเคลือบ ปรับปรุงและปรับปรุงคุณสมบัติพื้นผิวของวัสดุหรือชิ้นส่วนเพื่อปรับปรุงหรือปรับปรุงความต้านทานการเกิดออกซิเดชัน ความต้านทานการสึกหรอ ความต้านทานการกัดกร่อน และคุณสมบัติทางไฟฟ้า แสง และไตรโบโลยีของวัสดุหรือชิ้นส่วน
2. พัฒนาวัสดุโครงสร้างใหม่ ปัจจุบัน เทคโนโลยี CVD ถูกนำมาใช้อย่างแพร่หลายในหลายด้าน เช่น ฟิล์มกันรอย เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ การใช้พลังงานแสงอาทิตย์ การสื่อสารด้วยใยแก้วนำแสง เทคโนโลยีตัวนำยิ่งยวด การเตรียมวัสดุใหม่ เป็นต้น
นอกจากนี้ ในการเตรียมวัสดุผง การใช้ตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีประสิทธิภาพและเสถียรเพื่อส่งเสริมกระบวนการเตรียมผง CVD หรือใช้ร่วมกับวิธีการทางกายภาพเพื่อเตรียมวัสดุผงภายใต้สภาวะอุณหภูมิต่ำและสุญญากาศสูงก็กลายเป็นทิศทางการพัฒนาในอนาคตเช่นกัน ของเทคโนโลยีการสะสมไอของสารเคมี

บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบ DLC, เครื่องเคลือบออปติคอล, สายเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการแบบเบ็ดเสร็จ ติดต่อเราตอนนี้ E-mail:iks.pvd@foxmail.com