การสะสมไอของสารเคมี (CVD)
May 19, 2023| การตกสะสมด้วยไอเคมี (CVD) เป็นเทคนิคการตกตะกอนฟิล์มบางที่ใช้กันอย่างแพร่หลาย โดยอิงตามปฏิกิริยาเคมีระหว่างสารตั้งต้นที่เป็นก๊าซและพื้นผิวของสารตั้งต้น ใน CVD ก๊าซตั้งต้นจะถูกนำเข้าไปในห้องทำปฏิกิริยาและให้ความร้อนที่อุณหภูมิสูงเพื่ออำนวยความสะดวกในการเกิดปฏิกิริยาทางเคมีของฟิล์มแข็งที่สะสมบนพื้นผิว
บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบ DLC, เครื่องเคลือบออปติคอล, สายเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการแบบเบ็ดเสร็จ ติดต่อเราตอนนี้ อีเมล: iks.pvd@foxmail.com

←
คู่ของ: วัสดุเป้าหมายของ Magnetron Sputtering
ถัดไป: กระบวนการสะสมของแมกนีตรอนสปัตเตอร์
→
ส่งคำถาม


