วิธีการบรรลุเป้าหมายที่กำหนดของการผลิตแม่พิมพ์เคลือบไอระเหยของสารเคมี

เพื่อให้บรรลุเป้าหมายที่กำหนดไว้ในการผลิตแม่พิมพ์เคลือบด้วยไอสารเคมี จะต้องปฏิบัติตามเงื่อนไขต่อไปนี้:

(1) การเลือกใช้วัสดุเคลือบผิวอย่างสมเหตุสมผล กล่าวคือ ตามเงื่อนไขการให้บริการของชิ้นงานที่เลือกวัสดุเคลือบผิวที่มีคุณสมบัติทางกายภาพและทางเคมีที่เหมาะสม TiC, TiN, Ti (C, N), Cr, C3, Al, O; และการเคลือบผิวอื่นๆ มีลักษณะการทำงานบางอย่าง มีให้เลือก บางครั้งเราสามารถเลือกฟิล์มหลายชั้นที่ตรงกันได้ตามความต้องการ (2) ในการเลือกวัสดุฐาน ควรพิจารณาเงื่อนไขการบริการและการจับคู่ระหว่างการเคลือบผิวและวัสดุฐานก่อน เช่น ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อน พลังงานส่วนต่อประสาน สมบัติทางเคมี สมบัติทางโลหะ และไม่ว่าจะเป็นตัวกลางที่เปราะหรืออ่อน เลเยอร์การเปลี่ยนแปลงจะเกิดขึ้นระหว่างทั้งสอง เนื่องจากการรักษา TCVD ที่อุณหภูมิสูง จึงจำเป็นต้องพิจารณาความต้านทานความร้อนและการเปลี่ยนแปลงโครงสร้างของวัสดุเมทริกซ์ ดังนั้นโดยทั่วไปจึงเลือกคาร์ไบด์ เหล็กกล้าความเร็วสูง เหล็กกล้าเครื่องมือคาร์บอนสูงและโครเมียมสูง เหล็กกล้าเครื่องมือชุบแข็งด้วยแก๊ส และเหล็กกล้าแม่พิมพ์ร้อนเป็นวัสดุเมทริกซ์ (3) กำหนดความหนาของการเคลือบที่เหมาะสม สารเคลือบผิวที่บางเกินไปไม่สามารถได้รับประสิทธิภาพและอายุการใช้งานที่ดีที่สุด และการเคลือบผิวที่หนาเกินไปจะเปราะบาง และการยึดเกาะระหว่างสารเคลือบผิวกับพื้นผิวจะไม่ดี ช่วงความหนาปกติของการเคลือบสะสมไอระเหยของสารเคมีที่อุณหภูมิสูง: TiC,2~8μm; ดีบุก, 5~14μm; TiCN),4 ~ 10μm; -Al2O3, 2~10μm; Cr7C3,7~12μm, การเคลือบคอมโพสิต, 3~15μm ควรเลือกความหนาเฉพาะตามเงื่อนไขการบริการ (4) การเลือกใช้อุปกรณ์ที่ดีและใช้เทคโนโลยีที่ถูกต้อง นอกจากอุปกรณ์ที่ดีและถูกต้องตามกระบวนการแล้ว นอกเหนือจากการบรรลุดัชนีประสิทธิภาพทางเทคนิคแล้ว เรายังมุ่งมั่นที่จะใช้คอมพิวเตอร์เพื่อตรวจสอบพารามิเตอร์กระบวนการและขั้นตอนของอุปกรณ์โดยอัตโนมัติ เพื่อให้แน่ใจว่าคุณภาพการเคลือบและพารามิเตอร์ทางเทคนิคและขั้นตอนมีความน่าเชื่อถือ และเพื่อให้มั่นใจในคุณภาพการเคลือบและความสามารถในการทำซ้ำของกระบวนการได้อย่างน่าเชื่อถือ

บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบ DLC, เครื่องเคลือบออปติคอล, สายเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการแบบเบ็ดเสร็จ ติดต่อเราตอนนี้ E-mail:iks.pvd@foxmail.com