อิทธิพลของพารามิเตอร์กระบวนการแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่ง: เป้าหมายปัจจุบัน

อิทธิพลของพารามิเตอร์กระบวนการแมกนีตรอนสปัตเตอร์: กระแสเป้าหมาย

ด้วยการเปลี่ยนกระแสเป้าหมาย จะสามารถควบคุมปริมาณสัมพัทธ์ของแต่ละองค์ประกอบในการเคลือบควอเทอร์นารี N (Cr,Ti,Al) N ได้ และพลังงานของอนุภาคสปัตเตอร์ที่โจมตีเป้าหมายสามารถเปลี่ยนแปลงได้ ซึ่งส่งผลต่อโครงสร้างจุลภาคและคุณสมบัติของการเคลือบ การศึกษาแสดงให้เห็นว่าความแข็งของการเคลือบเพิ่มขึ้นตามการเพิ่มขึ้นของกระแสเป้าหมาย Ti [63-64] ในแง่หนึ่ง เมื่อกระแสเป้าหมาย Ti เพิ่มขึ้น ปริมาณ Ti ในสารเคลือบจะเพิ่มขึ้น และเฟสแข็งของ TiN จะปรากฏขึ้น ซึ่งส่งผลให้ความแข็งของสารเคลือบเพิ่มขึ้น ในทางกลับกัน ด้วยการเพิ่มขึ้นของกระแสเป้าหมาย Ti อะตอมของ Ti จะละลายใน CrN เพื่อสร้างสารละลายของแข็ง Cr-Ti-N ซึ่งช่วยเพิ่มผลในการเสริมความแข็งแรงของสารละลายของแข็ง และทำให้ความแข็งของสารเคลือบเพิ่มขึ้น [63] นอกจากนี้ ด้วยการเพิ่มขึ้นของกระแสเป้าหมาย Ti ผลการทิ้งระเบิดของไอออน Ar บนการเคลือบจะเพิ่มขึ้น และความหนาแน่นของการเคลือบก็ดีขึ้น ซึ่งจะเป็นการเพิ่มความแข็งของการเคลือบ [64] ดังนั้นการเพิ่มขึ้นของความแข็งของการเคลือบจึงเป็นผลมาจากการทำงานร่วมกันของเฟสและโครงสร้างที่มีความหนาแน่น

บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบ DLC, เครื่องเคลือบแสง, สายเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการเทิร์นคีย์สามารถใช้ได้ ติดต่อเราตอนนี้ อีเมล: iks.pvd@foxmail.com