คุณสมบัติหลักและข้อดีของการเคลือบ PVD (การเคลือบอิออน)
Mar 22, 2020| คุณสมบัติหลักและข้อดีของเทคโนโลยีการเคลือบ PVD (การเคลือบไอออน) - เมื่อเปรียบเทียบกับการเคลือบสูญญากาศการระเหยและการเคลือบสปัตเตอร์สูญญากาศการเคลือบ PVD ไอออนมีข้อดีดังต่อไปนี้:
A. การยึดเกาะระหว่างชั้นฟิล์มกับพื้นผิวชิ้นงานมีความแข็งแกร่งทำให้ทนทานและทนต่อการสึกหรอ
B. ประสิทธิภาพการเลี้ยวเบนของไอออนนั้นดีและชิ้นงานที่มีรูปร่างซับซ้อนสามารถชุบได้
C. อัตราการสะสมฟิล์มเร็วและประสิทธิภาพการผลิตสูง
D. ประเภทการเคลือบที่หลากหลาย
E. ประสิทธิภาพที่มั่นคงและความปลอดภัยสูงของเมมเบรน (ผ่านการรับรองจาก FDA และสามารถฝังได้)
ซื้อเครื่องเคลือบ PVD ติดต่อ IKS PVD เราเป็นผู้ผลิตเครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD จากประเทศจีน
E-mail: iks.pvd@foxmail.com
ส่งคำถาม