วิธีการเคลือบ PVD
Oct 26, 2021| วิธีการเคลือบ PVD
มีสองวิธีการเคลือบที่ใช้กันทั่วไปในการผลิต: การสะสมไอทางกายภาพ (PVD) และการสะสมไอเคมี (CVD) อุณหภูมิการสะสมของอดีตคือ 500 ℃ และความหนาของการเคลือบคือ 2-5 μm อุณหภูมิการสะสมของหลังคือ 900 ℃ ~ 1100 ℃ความหนาของการเคลือบสามารถเข้าถึง5 ~ 10μmและอุปกรณ์เคลือบสม่ำเสมออย่างง่าย เนื่องจากวิธี PVD ไม่เกินอุณหภูมิการอบชุบของเหล็กกล้าความเร็วสูง เครื่องมือเหล็กกล้าความเร็วสูงจึงมักใช้วิธี PVD และซีเมนต์คาร์ไบด์ส่วนใหญ่ใช้วิธี CVD เนื่องจากอุณหภูมิของการสะสมสูง ชั้น decarburization ที่เปราะ (ขั้นตอน η) จึงเกิดขึ้นได้ง่ายระหว่างการเคลือบและพื้นผิว ซึ่งนำไปสู่การแตกหักแบบเปราะของใบมีดคาร์ไบด์
เคลือบแต่ละชั้นของเครื่องมือ
ในทศวรรษที่ผ่านมา ด้วยการพัฒนาเทคโนโลยีการเคลือบ วิธี PVD จึงสามารถใช้สำหรับซีเมนต์คาร์ไบด์ได้ ในต่างประเทศ เทคโนโลยีที่ผสมผสานระหว่าง PVD/CVD ได้พัฒนากระบวนการเคลือบคอมโพสิตที่เรียกว่าวิธี PACVD (การสะสมไอเคมีในพลาสมา) กล่าวอีกนัยหนึ่ง พลาสมาใช้เพื่อส่งเสริมปฏิกิริยาเคมี และอุณหภูมิเคลือบสามารถลดลงต่ำกว่า 400 ℃ (อุณหภูมิเคลือบสามารถลดลงเป็น 180 ℃ ~ 200 ℃) เพื่อไม่ให้มีการแพร่กระจาย การเปลี่ยนแปลงเฟส หรือ ปฏิกิริยาการแลกเปลี่ยนระหว่างคาร์ไบด์เมทริกซ์และวัสดุเคลือบ และสามารถรักษาความเหนียวเดิมของใบมีดได้ วิธีนี้ได้รับการรายงานว่ามีประสิทธิภาพโดยเฉพาะสำหรับการเคลือบเพชรและคิวบิกโบรอนไนไตรด์ (CBN) ซุปเปอร์ฮาร์ด
บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบแสง, สายการเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการเทิร์นคีย์พร้อมใช้งาน.ติดต่อเราตอนนี้ E-mail:iks.pvd@foxmail.com