เทคโนโลยีการเคลือบการระเหยแบบต้านทาน

เทคโนโลยีการเคลือบสารต้านทานการระเหย

เทคโนโลยีการเคลือบการระเหยแบบต้านทานโดยใช้ความร้อนแบบต้านทานความร้อน เทคโนโลยีการเคลือบการระเหยโดยทั่วไปใช้ในการระเหยวัสดุที่มีจุดหลอมเหลวต่ำ เช่น อลูมิเนียม ทอง เงิน ซิงค์ซัลไฟด์ แมกนีเซียมฟลูออไรด์ โครเมียมไตรออกไซด์ ฯลฯ ความต้านทานความร้อนโดยทั่วไปจะใช้ทังสเตน โมลิบดีนัม แทนทาลัม และอื่นๆ ข้อดีที่ไม่เหมือนใคร โครงสร้างเรียบง่าย ต้นทุนต่ำ ข้อเสีย วัสดุนี้ทำปฏิกิริยากับเบ้าหลอมได้ง่ายซึ่งส่งผลต่อความบริสุทธิ์ของฟิล์ม และไม่สามารถอบไอน้ำฟิล์มอิเล็กทริกที่มีจุดหลอมเหลวสูงและอัตราการระเหยต่ำ

บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบ DLC, เครื่องเคลือบแสง, สายเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการเทิร์นคีย์สามารถใช้ได้ ติดต่อเราตอนนี้ อีเมล: iks.pvd@foxmail.com