หลักการพื้นฐานของการเคลือบสูญญากาศและการเคลือบด้วยแสง

หลักการพื้นฐานของการเคลือบสูญญากาศและการเคลือบด้วยแสง

1 การเคลือบสูญญากาศเป็นสิ่งสำคัญในด้านการประยุกต์ใช้สูญญากาศ มันขึ้นอยู่กับเทคโนโลยีสูญญากาศ การใช้วิธีการทางกายภาพหรือทางเคมีและการดูดซับลำแสงอิเล็กตรอน ลำแสงโมเลกุล ลำแสงไอออน ลำแสงแยก ความถี่วิทยุและการควบคุมแม่เหล็กและ ชุดของเทคโนโลยีใหม่ สำหรับการวิจัยทางวิทยาศาสตร์และการผลิตจริงเพื่อให้เทคโนโลยีใหม่ของการเตรียมฟิล์มบาง พูดง่ายๆ ก็คือ การระเหยหรือการสปัตเตอร์ของโลหะ โลหะผสม หรือสารประกอบในสุญญากาศเพื่อทำให้แข็งตัวและสะสมไว้บนวัตถุที่เคลือบ (เรียกว่าซับสเตรต ซับสเตรต หรือเมทริกซ์)
2. การรบกวนของแสงถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในเลนส์แบบฟิล์มบาง วิธีการทั่วไปของเทคโนโลยีฟิล์มบางแบบออปติคัลคือการเคลือบฟิล์มบางบนพื้นผิวแก้วโดยการสปัตเตอร์สูญญากาศ ซึ่งโดยทั่วไปจะใช้เพื่อควบคุมการสะท้อนแสงและการส่งผ่านของพื้นผิวไปยังลำแสงตกกระทบเพื่อตอบสนองความต้องการที่แตกต่างกัน เพื่อขจัดการสูญเสียการสะท้อนบนพื้นผิวของชิ้นส่วนออปติคัลและปรับปรุงคุณภาพการถ่ายภาพ ฟิล์มสื่อโปร่งใสเคลือบหนึ่งชั้นหรือหลายชั้น ซึ่งเรียกว่าฟิล์มป้องกันแสงสะท้อนหรือฟิล์มป้องกันแสงสะท้อน
ด้วยการพัฒนาเทคโนโลยีเลเซอร์ มีข้อกำหนดที่แตกต่างกันสำหรับการสะท้อนแสงและการส่งผ่านของฟิล์ม ซึ่งส่งเสริมการพัฒนาฟิล์มสะท้อนแสงสูงหลายชั้นและฟิล์มป้องกันแสงสะท้อนบรอดแบนด์ ฟิล์มสะท้อนแสงโพลาไรซ์ ฟิล์มกระจายสี ฟิล์มแสงเย็น และตัวกรองสัญญาณรบกวนทำมาจากฟิล์มสะท้อนแสงสูงสำหรับการใช้งานที่หลากหลาย หลังจากเคลือบพื้นผิวของชิ้นส่วนออปติคัลแล้ว แสงจะสะท้อนและส่งหลายครั้งบนชั้นฟิล์ม ทำให้เกิดการรบกวนแบบหลายลำแสง ควบคุมดัชนีการหักเหของแสงและความหนาของชั้นฟิล์ม และได้การกระจายความเข้มที่แตกต่างกัน ซึ่งเป็นหลักการพื้นฐาน ของการเคลือบรบกวน

บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบแสง, สายการเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการเทิร์นคีย์พร้อมใช้งานแล้วติดต่อเราตอนนี้ E-mail:iks.pvd@foxmail.com