กระบวนการ PECVD

การสะสมไอสารเคมีในพลาสมา (PECVD) เป็นการสะสมไอสารเคมีชนิดหนึ่ง และอุณหภูมิการสะสมตัวที่ต่ำเป็นข้อได้เปรียบที่โดดเด่นที่สุด ฟิล์มเคลือบ PECVD มีคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ดีเยี่ยม การยึดเกาะพื้นผิวที่ดี และการครอบคลุมขั้นบันไดที่ดีเยี่ยม ซึ่งทำให้มีการใช้กันอย่างแพร่หลายใน VLSI อุปกรณ์ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ MEMS และสาขาอื่นๆ

บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบ DLC, เครื่องเคลือบออปติคอล, สายเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการแบบเบ็ดเสร็จ ติดต่อเราตอนนี้ อีเมล: iks.pvd@foxmail.com