การสะสมไอทางกายภาพ (PVD) :
Apr 23, 2023| วิธีนี้เกี่ยวข้องกับการเคลือบฟิล์มบางๆ ลงบนพื้นผิวโดยใช้กระบวนการทางกายภาพ เทคโนโลยี PVD รวมถึงการระเหยของลำแสงอิเล็กตรอน การสปัตเตอร์ และการระเหยด้วยความร้อน
บริษัท IKS PVD, เครื่องเคลือบตกแต่ง, เครื่องเคลือบเครื่องมือ, เครื่องเคลือบ DLC, เครื่องเคลือบออปติคอล, สายเคลือบสูญญากาศ PVD, โครงการแบบเบ็ดเสร็จ ติดต่อเราตอนนี้ อีเมล: iks.pvd@foxmail.com

←
คู่ของ: กระบวนการ PECVD
ส่งคำถาม


