แหล่งจ่ายไฟ Magnetron Pulsed Power สูง

ข้อดีของเทคโนโลยีสปัตเตอร์ Magnetron Pulsed Power สูง ( HIPIMS )

●แรงดันไฟฟ้า DC magnetron แบบเดิมถูก จำกัด โดยความเค้นความร้อนของชิ้นงาน

●พลังงานสะสมของไอออนส่วนใหญ่สามารถเปลี่ยนเป็นพลังงานความร้อนของเป้าหมายได้โดยตรง

●แหล่งจ่ายไฟ magnetron แบบพัลซิ่งทำให้พลังงานชีพจรสูงและรอบการทำงานต่ำ

●แหล่งจ่ายไฟ magnetron แบบพัลซิงค์สามารถแทนที่แหล่งกำเนิดไฟฟ้าสเตนเลส DC magnetron ได้โดยตรง

เปรียบเทียบระหว่างการปล่อยไอออนแม่เหล็กไฟฟ้าแบบพัลส์แม็กเน็ทและการปลดปล่อยสเตทออกไซด์ของ DC Magnetron

คุณสมบัติของแหล่งจ่ายไฟ Magnetron Pulsed Power Pulsed Power สูง

● ขั้วลบบวกและลบ จะถูกควบคุมโดยสวิทช์ความเร็วสูงเพื่อหลีกเลี่ยงการเข้าสู่พื้นที่ปลดปล่อยอาร์กจากพื้นที่การปลดปล่อยประกายไฟที่ผิดปกติของเครื่องปั้มแบบ magnetron แบบเดิม ความหนาแน่นกระแสไฟฟ้าอยู่ที่ 1018-1019 / m3 ซึ่งสูงกว่าการสปัตเตอร์ magnetron แบบดั้งเดิม และด้วยอัตราไอออนไนซ์ที่สูงมากถึง 80% -99% ก็สามารถฝากฟิล์มขั้นสูงหลายชนิดเข้าด้วยกันได้อย่างแข็งแรง

●การสปัตเตอร์แม่เหล็กแม็กเทิร์นแรงดันไฟฟ้าสูงมีลักษณะฟิล์มที่ดีเยี่ยมมากขึ้นในแง่ของความสม่ำเสมอของฟิล์มความแข็งความทนทานต่อการสึกหรอและการยึดเกาะ

●ด้วยแรงดันไฟฟ้าสูงและวงจรการทำงานที่ต่ำอาจทำให้แหล่งจ่ายไฟสเตตัิร์ต magnetron แรงสูงสามารถแทนที่แหล่งกำเนิดไฟฟ้าได้โดยตรงโดยไม่ต้องเปลี่ยนอุปกรณ์เคลือบด้วย magnetron sputtering เดิม

●เทคโนโลยีปราบปรามอาร์ค PHP ช่วยให้มั่นใจได้ว่าผู้ใช้สามารถควบคุมคุณภาพของแผ่นฟิล์มได้สะดวกยิ่งขึ้นในกระบวนการบำบัดพื้นผิว ด้วยคุณสมบัติของระบบป้องกันแรงดันไฟฟ้าและระบบ coup de foue จึงทำให้แหล่งจ่ายไฟสามารถยับยั้งการเกิดประกายไฟบนพื้นผิวของชิ้นงานได้อย่างมีประสิทธิภาพและช่วยปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิตความละเอียดของพื้นผิวและการยึดเกาะฟิล์มของชิ้นงานชุบ

●แหล่งจ่ายไฟ magnetron แรงสูงด้วยเทคโนโลยีอินพุตแปลงความถี่สูงที่ทันสมัยและโมดูลพลังงาน IGBT กำลังสูง

●การใช้ไมโครคอนโทรลเลอร์ในหน้าจอสัมผัสแหล่งจ่ายไฟมีการบูรณาการและมีประสิทธิภาพสูงพร้อมการใช้งานที่ง่าย การแสดงผลของกระแสและแรงดันไฟฟ้ามีความชัดเจนและใช้งานง่าย นอกจากนี้ยังสนับสนุนการนับความเร็วสูงแบบมัลติแชนเนลและฟังก์ชันพัลส์ความเร็วสูง

●แหล่งจ่ายไฟ มีฟังก์ชั่นป้องกันสำหรับกระแสไฟฟ้าเกินแรงดันเกินและเกินอุณหภูมิ

●แหล่งจ่ายไฟสามารถสื่อสารกับคอมพิวเตอร์แม่ข่ายผ่านทางพอร์ตดิจิตอลเช่น RS232, RS485, WIFI เป็นต้นซึ่งจะขยายฟังก์ชั่นการควบคุม

คุณสมบัติของผลิตภัณฑ์:

เปรียบเทียบระหว่าง EP50A80H กับแหล่งจ่ายกำลังไฟฟ้า Magnetron Power Impulse กำลังสูงและผลิตภัณฑ์อื่น ๆ

ข้อดีของการใช้พลังงานแม่เหล็กไฟฟ้า Pulsed Magnetron EP50A80H

● ความน่าเชื่อถือสูง

EP50A80H ให้ฟิล์มที่ดีขึ้นในแง่ของความสม่ำเสมอของฟิล์มความแข็งทนต่อการสึกหรอและการยึดเกาะ

● เทคโนโลยีการปราบปรามอาร์คที่ยอดเยี่ยม

EP50A80H ใช้เทคโนโลยีปราบปรามอาร์ค PHP เพื่อให้ผู้ใช้สามารถควบคุมคุณภาพของฟิล์มได้อย่างสะดวกในขั้นตอนการรักษาพื้นผิวเพื่อให้ได้โครงสร้างฟิล์มที่ดีขึ้น

● ความเข้ากันได้ดี

EP50A80H สามารถทดแทนแหล่งจ่ายไฟเตอร์สเต็ปทอลที่มีอยู่ได้โดยตรง แทนการเปลี่ยนวัสดุแคโทดและสนามแม่เหล็กผู้ใช้จะต้องเปลี่ยนระบบระบายความร้อน

● อัตราส่วนพลังงานต่อปริมาตรสูง

อัตราส่วนกำลังไฟฟ้าที่สูงทำให้การติดตั้งอุปกรณ์ง่ายขึ้นสำหรับผู้ใช้

ใบสมัคร

แหล่งกำเนิดพลังงานแม่เหล็กไฟฟ้าแบบ MF magnetron สูงที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในพลาสมากายภาพเคมีการแพทย์และสาขาการวิจัยทางวิทยาศาสตร์ต่างๆสามารถตอบสนองความต้องการของกระบวนการต่างๆได้หลากหลายโดยเฉพาะในอุปกรณ์เคลือบสูญญากาศ